Çinli yarı iletken araştırmacıları, yarı iletken üretim süreçlerini 3 nanometre eşiğinin altına indirme konusunda önemli bir başlangıç başarısı elde etti. Bu başarı, ABD'nin devam eden ihracat kısıtlamaları nedeniyle Çin'in erişiminin kısıtlandığı Hollandalı teknoloji devi ASML'e ait son teknoloji aşırı morötesi (EUV) litografi araçlarına sahip olmamasına rağmen gerçekleştirildi. Bu ilerleme, Çin'in uluslararası teknolojik engellemeler karşısında inovasyon yapma ve alternatif üretim yöntemleri bulma konusundaki agresif çabasını gözler önüne seriyor. Mevcut ticaret düzenlemeleri kapsamında ASML, genellikle ... seviyesinde çip üretimi için gerekli kabul edilen gelişmiş EUV makinelerini satmasının hukuki olarak yasaklanmış durumda.

Konular: Yarı İletkenler, Teknoloji ve Jeopolitik

SiteM’de tam özet, flashcard ve quiz →

Orijinal kaynak: www.scmp.com

Kaynak: sitem.co — paylas.io yer imi / keşif katmanı.